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Actualités

2022-12-09
Nanolithographie: tracer des motifs jusqu'à 10 nm
La plateforme de micro- et nanofabrication - WINFAB - vient d'acquérir un nouvel équipement de lithographie par faisceau d'électrons à ultra-haute résolution (EBL). Le système consiste en un microscope électronique à balayage à haute résolution équipé d'un module de lithographie permettant un contrôle précis du balayage par faisceau d'électrons.